六氟化钨
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    • 六氟化钨

    六氟化钨

    化学式:WF6

    纯度规格:6N

    用途:沉积

    主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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    产品详情

    高纯六氟化钨主要应用于大规模集成电路化学气相沉积工艺,,其沉积形成的钨导体膜可用作通孔和接触孔的互连线,,,具有低电阻、、、、高熔点的特点,,,纯度一般需要达到5N,,公司已实现6N级六氟化钨的量产,,凭借优异的产品品质,,多年来稳定供应境内外集成电路和显示面板知名客户,,客户覆盖广泛。。。。

    以品质为基石,,,,开拓全球市场

    目前,,传递者智能公司拥有单条年产能超过3000吨的高纯三氟化氮气体生产线,,拥有高纯六氟化钨规模化生产线,,,,拥有三氟甲磺酸系列产品研发生产基地,,,,建设了高纯钨制品中试生产线,,,,实现了企业大宗制气的技术突破,,,已成为国内特气行业产品系列丰富、、、、生产能力大、、、、市场覆盖面和占有率高、、、持续创新能力强的企业。。。。

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    公司主要从事电子特种气体及三氟甲磺酸系列产品的研发、、生产和销售,,,,主要产品包括高纯三氟化氮、、、高纯六氟化钨、、高纯氯化氢、、、高纯氟化氢、、、、高纯四氟化硅、、、、高纯氘气、、、高纯六氟丁二烯、、高纯八氟环丁烷、、、、高纯电子混合气等电子特种气体,,,,以及三氟甲磺酸、、、三氟甲磺酸酐、、、、双(三氟甲磺酰)亚胺锂等含氟新材料。。。


    三氟化氮

    化学式:NF3

    纯度规格:5N

    主要用途:清洗、、刻蚀

    主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、、 显示面板


    六氟化钨

    化学式:WF6

    纯度规格:6N

    用途:沉积

    主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


    氯化氢

    化学式:HCl

    纯度规格:5N

    用途:清洗、、、刻蚀

    主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


    氟化氢

    化学式:HF

    纯度规格:5N

    用途:清洗、、刻蚀

    主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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